二氯二氢硅（SiH₂Cl₂）常用于外延法工艺中重要的硅源。易燃、有毒，与水接触易水解，沸点8.2℃。在铜催化作用下，HCl与硅在25O-260℃反应可以制得SiH₂Cl₂。
 
（1）利用浓硫酸、浓盐酸为原料，选用A装置制取HCl，利用了浓硫酸的_____性。
（2）D装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为____________。
（3）按照气体从左到右方向，制取SiH₂Cl₂的装置（h 处用止水夹夹好）连接次序为____________a→ (  ) → (  )→ (  )→ (  )→ (  )→ (  )→ (  )（填仪器接口的字母，其中装置C用到2次）。
（4）按从左到右的顺序，前面装置C中装的药品为________，后面装置C的作用为________。
（5）反应除生成二氯二氢硅之外，还会生成H₂和______、____。
（6）新的制取SiH₂Cl₂方法是：往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl₄，然后再与HCl在250-260℃反应，可以大大提高产率。如果通人气体次序相反，结果会_______（用化学方程式表示）。