氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2
如图所示，一重力为10N的物体静止在斜面上，请你画出物体对斜面压力的示意图.
根据提示，补全对话。
— Are the blue parts oceans?
—____ .(做肯定回答)
质量较大的鸽子与质量较小的燕子，在天空中自由翱翔，如果它们的动能相等，那么（ ）
Si3N4+12H2Si3N4+12H2
SiHCl3（g）+H2（g）;ΔH="-381" kJ·mol-1
Si+3HCl 对上述两个反应的叙述中，错误的是