氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2
将一副三角板按图叠放，则△AOB与△DOC的面积之比等于____ ．
图是玉米种子纵切图，能为玉米种子萌发提供营养的结构是。
在图甲、乙、丙、丁四村中，优先发展为城市的是（ ）
Si3N4+12H2Si3N4+12H2
