氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2
我国著名数学家陈省身先生93岁生日时,还公布了他的最近研究成果。他以此为乐,认为自己每天都在感受着最美的学问。这给你的启示是( )
下列应用在高铁列车上的材料,不属于金属材料的是( )
下列节日中,学校所在地昼夜长短差异最大的是( )