除草剂敏感型拟南芥经一定剂量的射线照射后，其子代出现了一株具有除草剂抗性的突变体.下列有关该突变体形成原因的叙述正确的是A．若为某基因突变所致，则该抗性突变体自

题干

除草剂敏感型拟南芥经一定剂量的射线照射后，其子代出现了一株具有除草剂抗性的突变体.下列有关该突变体形成原因的叙述正确的是

A．若为某基因突变所致，则该抗性突变体自交后代一定发生性状分离

B．若为某基因内部缺失部分碱基对所致，则该基因控制合成的肽链长度一定变短

C．若为某基因内部C//G碱基对重复所致，则该基因中嘌呤与嘧啶的比例一定不变

D．若为某染色体片段缺失所致，则该变异一定发生在减数分裂形成配子的过程中

上一题下一题 0.4难度单选题更新时间:2019-05-06 06:56:49

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