硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl
3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
石英砂

粗硅

SiHCl
3(粗)

SiHCl
3(纯)

高纯硅
①写出由纯SiHCl
3制备高纯硅的化学反应方程式:_____________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl
3遇水剧烈反应生成H
2SiO
3、HCl和另一种物质,写出这一过程的化学反应方程式:__;H
2还原SiHCl
3过程中若混入O
2,可能引起的后果是__________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是_____(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产砂纸、砂轮的磨料 |
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 |
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 |
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高 |
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅