工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：

（1）石英砂的主要成分是________（填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是________。
（2）制备三氯氢硅的反应：
Si（s）+3HCl（g）SiHCl₃（g）+H₂（g）
伴随的副反应为：Si（s）+4HCl（g）SiCl₄（g）+2H₂（g）
已知SiHCl₃和SiCl₄常温下均为液体，工业上分离SiHCl₃和SiCl₄的操作方法
为________；
写出SiHCl₃（g）和HCl反应生成SiCl₄（g）和H₂的热化学方程式________。
（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是________。
（4）实验室用SiHCl₃与过量H₂反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl₃能与H₂O强烈反应，在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是________（填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是________。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是________，装置D中发生反应的化学方程式为________。