工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl₃：Si+3HCl=SiHCl₃+H₂，SiHCl₃与过量的H₂在1000℃～1100℃反应制得纯硅。
有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	SiHCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	—	315	33.0	—
熔点/℃	-70.0	-107.2	—	—	-126.5	—
升华温度/℃	—	—	180	300		162

 
（1）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃中含有少量SiCl₄，提纯SiHCl₃可采用
___________的方法
（2）实验室也可用SiHCl₃与过量干燥的H₂反应制取纯硅，装置如下图所示（加热和夹持装置略去）：
 
①装置B中的试剂是___________，装置C需水浴加热，目的是____________________。
②反应一段时间后，装置D中可观察到有晶体硅生成，装置D不能采用普通玻璃管的原因是_____________。