题干
二氯二氢硅(SiH2C12)常作于外延法工艺中重要的硅源。易燃、有毒,与水接触易水解，沸点8.2℃。在铜催化作用下,HCl 与硅在250-260℃反应可以制得SiH2Cl2.
(1) 利用浓硫酸、浓盐酸为原料，选用A 装置制取HC1,利用了浓硫酸的_______性。
(2)D 装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为___________________。
(3) 按照气体从左到右方向，制取SiH2Cl2的装置连接次序为a→___→___→f→g→___→___→____→_____(填仪器接口的字母,其中装置C 用到2 次).其中装置B 的作用是____；前面装置C 中装的药品为______，后面装置C的作用为____________。
(4)新的制取SiH2Cl2方法是: 往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl4,然后再与HCl 在250-260℃反应，可以大大提高产率。如果通入气体次序相反，产率会降低，其原因是__________(用化学方程式表示).
(1) 利用浓硫酸、浓盐酸为原料，选用A 装置制取HC1,利用了浓硫酸的_______性。
(2)D 装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为___________________。
(3) 按照气体从左到右方向，制取SiH2Cl2的装置连接次序为a→___→___→f→g→___→___→____→_____(填仪器接口的字母,其中装置C 用到2 次).其中装置B 的作用是____；前面装置C 中装的药品为______，后面装置C的作用为____________。
(4)新的制取SiH2Cl2方法是: 往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl4,然后再与HCl 在250-260℃反应，可以大大提高产率。如果通入气体次序相反，产率会降低，其原因是__________(用化学方程式表示).
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