氮化硅(Si₃N₄)是一种优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域中有重要用途。工业上有多种方法来制备氮化硅，下面是几种常见的方法：
(1)方法一——直接氮化法：在1300～1400 ℃时，高纯粉状硅与纯氮气化合，其反应方程式为3Si＋2N₂1300～1400 ℃,Si₃N₄。
(2)方法二——可以用NH₃和SiH₄(硅烷)在一定条件下反应，并在600 ℃的加热基板上生成氮化硅膜，其化学方程式为________________________________________________________。
(3)方法三——化学气相沉积法：在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和氯化氢，与方法一相比，用此法制得的氮化硅纯度较高，其原因是_______________________。
(4)方法四——Si(NH₂)₄热分解法：先用四氯化硅与氨气反应生成Si(NH₂)₄和一种气体：________(填化学式)；然后使Si(NH₂)₄受热分解，分解后的另一种产物的化学式为________。
工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：

已知：X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应，Y与X在光照或点燃条件下可反应，Z的焰色呈黄色。
(5)写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式：________________________________________________________。