三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如下：

(1)写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式：_______；
(2)整个制备过程必须严格控制无水、无氧环境。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出并配平该化学反应方程式：____，H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是________。
(3)在高温下，碳与硅可生成SiC。对于化学反应SiO₂＋3CSiC＋2CO↑，在反应中氧化剂与还原剂的物质的量之比为______。