2018年4月美国对中国企业中兴通讯禁售手机芯片等,芯片的制造引起了热议,而制造芯片的主要原材料是高纯硅。高纯硅制备方法之一的工业流程如下:

资料:SiHCl
3能与H
2O剧烈反应;在空气中易自燃;粗SiHCl
3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl
4(沸点57.6℃)和HCl(沸点﹣84.7℃)
(1)流程①中利用了焦炭的_____性。流程③中的精馏温度应不超过_____。
(2)流程④制备高纯硅的装置如图(热源及夹持装置略去):

①流程④的化学反应为置换反应,写出其化学方程式:_____。
②装置B中的试剂是_____;装置C中的烧瓶需要加热,其目的是_____。
③反应一段时间后,装置D中观察到的现象是_____。
④为保证制备高纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及_____。
(3)该流程中能够循环利用的物质是_____。