第三周期的元素单质及其化合物有广泛的用途，请根据相关知识回答下列问题：
(1)原子最外层电子数是核外电子总数的元素，其原子结构示意图为________________；还原性最弱的简单阴离子__________ (填离子符号）。
(2)晶体硅(熔点1410℃)是良好的半导体材料，可通过如图所示过程制备：

在上述由SiCl₄制纯硅的反应中，测得每生成2.8kg纯硅需要吸收akJ热量，请写出该反应的热化学方程式___________________。
(3)氯化铝的水溶液可用于净水，其原因是_________   (用离子方程式表示)。
工业上用铝土矿(主要成分为Al₂O₃，含有Fe₂O₃、SiO₂等杂质)来制取无水氯化铝的一种工艺流程如图所示：

已知：

物质	SiCl4	AlCl3	FeCl3	FeCl2	Al2O3	Fe2O3	SiO2
沸点/℃	57.6	180(升华)	300(升华)	1023	2980	3414	2230

 
①工业制铝时，电解Al₂O₃而不电解AlCl₃的理由是____________。
②步骤Ⅰ中焙烧使固体水分挥发、气孔数目增多，其作用是_________    (只要求写出一种)。
③步骤Ⅱ中若不通入氯气和氧气，则生成相对原子质量比硅大的单质______________。
④尾气经冷却至室温后用足量的KOH浓溶液吸收，生成的盐中除了K₂CO₃外，还有3种，其化学式分别为________________；其中一种盐可用于实验室制O₂，若不加催化剂，400℃时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸盐，另一种盐的阴阳离子个数比为1:1。写出该反应的化学方程式：________________。
⑤结合流程及相关数据分析，步骤V中加入铝粉的目的是__________________。