光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去):

已知：
Ⅰ．(R，R′为烃基或氢)
Ⅱ．(R，R′为烃基)
（1）A分子中含氧官能团名称为_________。
（2）G的化学名称为_________。
（3）F生成G的反应类型为_________。
（4）D分子中最多_________个原子共平面。
（5）B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为_________。
（6）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为_________。
（7）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有_________种，其中苯环上的一氯代物有两种的同分异构体的结构简式是_________。
（8）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为_________。