光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：

已知：I.
II.
（1）Ｇ的名称________
（2）已知Ｅ能发生水解反应，则X的结构简式________
（3）C→D的反应类型是_______
（4）光刻胶的结构简式_______________________
（5）B→C第①步反应的化学方程式为_____________________
（6）Ｈ与Ｃ的分子式相同。满足下列条件的Ｈ的结构有_______种。
①分子结构中只有一个羟基，能与FeCl₃溶液发生显色反应
②不能发生银镜反应
③分子中除苯环外无其它环状结构
（7）结合以上信息写出以Ａ为原料制备丙三醇的合成路线流程图(其它试剂任选)。______________
合成路线流程图示例如下：CH₃CHO CH₃COOH  CH₃COOCH₂CH₃