（题文）（题文）聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：

已知：R₁—CHO＋R₂—CH₂CHOCHOHR₁CHCHOR₂
请回答：
(1)C的化学名称为______________；M中含氧官能团的名称为____________。
(2)F→G的反应类型为__________；
检验产物G中新生成官能团的实验方法为______________________________。
(3)C→D的化学方程式为________________________________________。
(4)E的结构简式为_______________________；
H的顺式结构简式为_____________________________。
(5)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构)；
①属于芳香族化合物　②能发生水解反应和银镜反应
其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为_________________(任写一种)。