一种应用广泛的光敏材料光刻胶,其合成路线如下(部分试剂和产物已略去)

己知:I.
II.
请回答下列问题
（1）A分子中所含官能团名称为______________________。
（2）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为_____________________。
（3）F→G的条件和试剂是_____________________________。
（4）C物质不能发生的反应类型为_____________(填字母序号)。
a.加聚反应 b.缩聚反应 c.酯化反应    d. 还原反应
（5）B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为:__________________________。
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体_____________________________。