【化学一一选修修5:有机化学基础】光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,它的一种合成路线如下(部分试剂和产物略去):

已知：
I.
II.
回答下列问题
(1)C中所含官能团的名称是________，G的化学名称为_______________。
(2)乙快和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为_________,E→F的反应类型是___________。
(3)B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为_________________。
(4)D+G→光刻胶的化学方程式_________________________________。
(5)某芳香族有机物H是C的同系物,相对分子质量比C大14,则该有机物H的苯环上只含有两条侧链的同分异构体有______________种。(不考虑立体异构)
(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH₂CH₂OH为原料制备CH₂CH₂CH₂COOH的合成路线流程图(无机试剂任用) ______________________。合成路线流程图示例如下: