题干
光刻胶是一种应用广 泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知;
(R1、R2为烃基或氢)
(1)A的名称为________ ；羧酸 X的结构简式为___________________。
(2)C可与乙醇发生酯化反应，其化学方程式为____________，反应中乙醇分子所断裂的化学键是____________(填选项字母)。
aC——C键 b.C——H键 c. O——H键 d. C——O键
(3)E→F的化学方程式为___________；F到G的反应类型为_______________。
(4)写出满足下列条件B的2种同分异构体:___________、____________________。
①分子中含有苯环；②能发生银镜反应；③核磁共振氢谱峰面积比为2:2:2:1:1。
(5)根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用):___________________________。合成路线流程图示例如下:CH3CH2Br
CH3CH2OH
CH3COOCH2CH3
已知;
(R1、R2为烃基或氢)(1)A的名称为________ ；羧酸 X的结构简式为___________________。
(2)C可与乙醇发生酯化反应，其化学方程式为____________，反应中乙醇分子所断裂的化学键是____________(填选项字母)。
aC——C键 b.C——H键 c. O——H键 d. C——O键
(3)E→F的化学方程式为___________；F到G的反应类型为_______________。
(4)写出满足下列条件B的2种同分异构体:___________、____________________。
①分子中含有苯环；②能发生银镜反应；③核磁共振氢谱峰面积比为2:2:2:1:1。
(5)根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用):___________________________。合成路线流程图示例如下:CH3CH2Br
CH3CH2OHCH3COOCH2CH3答案(点此获取答案解析）
