光刻胶是一种应用广泛的光敏材料；其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：

（1）写出A的结构简式_______________。
（2）乙炔和羧酸X反应生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，峰面积比为3：2：1，E能发生水解反应，乙炔生成E的化学方程式为____________________________________。
（3）由B到C的反应类型为____________。由F到G的反应类型为_______________。
（4）光刻胶的结构简式为______________________________________。
（5）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl₃溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式______________。
（6）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH₃CHO为原料制备CH₃CH₂CH₂COOH的合成路线流程图（无机试剂任用）_______________。