高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下面是高聚物H的合成路线：



Ⅱ.反应③属于加聚反应 Ⅲ.D属于高分子化合物，
请回答下列问题：
(1)反应⑤的条件是_______________；E的分子式为__________________；
(2)C中含有的官能团的名称是________________ ；
(3)芳香烃M与A的实验式相同，经测定M的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积比为1:1:2:2:2,则M的结构简式为_____________；推测M可能发生的反应类型是___________；(写出一种即可)
(4)反应⑦的化学方程式为___________________________________________________ ；
(5)D和G反应生成H的化学方程式为___________________________________________ ；
(6)G的同分异构体中，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有__________种(不考虑立体异构)。