光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：

已知： 

(1)A的化学名称是_，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积之比为 3∶2∶1，E能发生水解反应，则 F 的结构简式为_。
(2)G 分子中所含官能团名称为_，羧酸 X 的实验式为_。
(3)B→C 所需的试剂 Y 和反应条件分别为_，由 F 到 G的反应类型为_。
(4)D 和 G 反应生成光刻胶的化学方程式为_____________________________________。
(5)C 的一种同分异构体满足下列条件：①能发生银镜反应，其水解产物之一能与 FeCl₃溶液发生显色反应；②苯环上的一氯取代产物只有两种，该同分异构体的结构简式为__________________。
(6)根据已有知识并结合相关信息，写出以 CH₃CHO 为原料制备 CH₃COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任选)：________________________________________。