高聚物 H 可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下列是高聚物 H 的一种合成路线：


已知：①D 属于高分子化合物；
请回答下列问题：
(1)A 的化学名称为 ____。
(2)B 中含氧官能团的名称是 ____。
(3)由 A 生成 B 和 Y 生成 E 的反应类型分别为_________。
(4)由 F 生成 G 的化学方程式为_____   。
(5)H 的结构简式为_____。
(6)只有一种官能团的芳香化合物 W 是 G 的同分异构体，W 能发生银镜反应，其中核磁共振氢谱为四组峰，峰面积 比为 3∶2∶2∶1 的结构简式为_____。
(7)参照上述合成路线，设计由对二甲苯和乙酸为原料制备 的合成路线(无机 试剂任选) ____。