(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

①整个制备过程必须达到无水无氧。在H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是_____________
②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是____________。
(2) 钛和钛合金被认为是21世纪的重要金属材料，冶炼金属钛时，将铁铁矿石转化为下TiCl₄，TiCl₄再与Na在一定条件下反应生成Ti和NaCl。请写出后一步反应的化学方程式：__________________(不要求标反应条件)，其反应类型是_________________。