A的分子式为C
2H
6O
2，以A为原料，按下图所示流程合成一种常用的光敏高分子材料G，其结构简式为：
。
已知：①—CH
2OH+—CH
2OH
—CH
2OCH
2—+H
2O
②
+
+H
2O
请回答下列问题：
（1）A的名称是
：F—→G的反应类型是
B的核磁共振氢谱上共有
种吸收峰。
C的结构简式是
。
A—→B的化学方程式是
。
B+D—→E的化学方程式是
。
写出同时满足下列条件的D的所有同分异构体的结构简式：
①属于酯类且苯环上只有一个取代基 ②除苯环外不再含其他环状结构
