光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：

已知Ⅰ．（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ.
Ⅲ．（R，R′为烃基）
（1）写出A的结构简式_____________、C的结构简式：_____________。
（2）由B生成C的反应试剂还可以选用_____________________。
（3）由B到C的反应类型为_____________。由F到G的反应类型为_____________。
（4）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为_________________________________________________。
（5）写出由A生成B的化学反应方程式：___________________________________________________。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl₃溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式：_____________。