光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):

已知：
Ⅰ．（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．（R，R’为烃基）
（1）写出A的结构简式__________。
（2）B分子中所含官能团的名称为__________。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则EF的化学方程式为____________。
（4）由F到G的反应类型为__________。
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为__________。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl₃溶液发生显色反应
②苯环上的一氧取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式:_________。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH₃CHO为原料制备CH₃COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下:
_______________________