高聚物的合成与结构修饰是制备具有特殊功能材料的重要过程。如图是合成具有特殊功能高分子材料W（）的流程：

已知：
I. R-CH₂OH
II. =R₂-OH,R、R₂、R₃代表烃基
(1)①的反应类型是___________。
(2)②是取代反应，其化学方程式是____________________。
(3)D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1∶3，不存在顺反异构。D的结构简式是_______。
(4)⑤的化学方程式是_________________。
(5)F的官能团名称____________________；G的结构简式是____________________。
(6)⑥的化学方程式是_________________________。
(7)符合下列条件的E的同分异构体有__________种(考虑立体异构)。
①能发生水解且能发生银镜反应 ②能与Br₂的CCl₄溶液发生加成反应
其中核磁共振氢谱有三个峰的结构简式是__________________。
(8)工业上也可用合成E。由上述①~④的合成路线中获取信息，完成下列合成路线(箭头上注明试剂和反应条件，不易发生取代反应)
_______________。