光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：

已知Ⅰ.
Ⅱ.
(1)写出A的结构简式__________________________________。
(2)B分子中所含官能团名称为___________________________。
(3)乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为______________________。
(4)由B到C的反应类型为________。由F到G的反应类型为__________________。
(5)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为______________________________________。
(6)C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl₃溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式：________________________________________________。
(7)根据已有知识并结合相关信息，写出以CH₃CHO为原料制备CH₃COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)________。
合成路线流程图示例如下：CH₃CH₂BrCH₃CH₂OHCH₃COOCH₂CH₃