芯片主要以高纯度的单质硅（Si）为原料制成。在半导体硅元件生产中，常用氢氟酸（HF）来清除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO2+6HF＝H2SiF4+2X．

题干

芯片主要以高纯度的单质硅（Si）为原料制成。在半导体硅元件生产中，常用氢氟酸（HF）来清除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO₂+6HF＝H₂SiF₄+2X．则X的化学式是（　　）

A．H₂O

B．H₂O₂

C．O₂

D．H₂

上一题下一题 0.65难度单选题更新时间:2019-05-07 11:09:45

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