氮的重要化合物,如氨(NH₃)、肼(N₂H₄)、三氟化氮(NF₃)等在生产、生活中具有重要作用。
（1）利用NH₃的还原性可消除氮氧化物的污染,相关热化学方程式如下:
N₂(g)+O₂(g)="2NO(g)" ΔH₁="+229.3" kJ·mol^-1
4NH₃(g)+5O₂(g)=4NO(g)+6H₂O(g) ΔH₂="-906.5" kJ·mol^-1
4NH₃(g)+6NO(g)=5N₂(g)+6H₂O(g) ΔH₃
则ΔH₃ =  kJ·mol^-1
（2）使用NaBH₄为诱导剂,可使Co²⁺与肼在碱性条件下发生反应,制得高纯度纳米钴,该过程产生的气体无毒，写出该反应的离子方程式  
（3）在微电子工业中，NF₃常用作氮化硅的蚀刻剂,工业上通过电解含NH₄F等的无水熔融物生产NF₃,其电解原理如图所示。

① 氮化硅的化学式为
② a电极为电解池的   (填“阴”或“阳”)极,写出该电极的电极反应式