半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率.三氯化磷(PCl
3)是一种重要的掺杂剂.实验室要用黄磷(即白磷)与干燥的Cl
2模拟工业生产制取PCl
3,装置如图所示:(部分夹持装置略去)

已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3,与过量Cl2反应生成PCl5 PCl3遇水会强烈水解生 成 H3PO3和HC1.遇O2会生成POCl3,POCl3溶于PCl3,PCl3、POCl3的熔沸点见下表:
物质
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熔点/℃
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沸点/℃
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PCl3
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﹣112
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75.5
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POCl3
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2
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105.3
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