题干

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:

3SiH4+4NH3Si3N4+12H2

上一题 下一题 0.0难度 选择题 更新时间:2012-09-07 04:17:06

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