三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5 H₂O = 2NO+HNO₃+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是（      ）

A：NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B：HF是还原产物

C：还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1

D：NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体