三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是（）_刷题宝

题干

三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是（）

A：NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B：还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C：若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子

D：NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

上一题下一题 0.0难度选择题更新时间:2019-09-21 04:05:10

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D

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这样按键：□→□→□→□→□→□

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