A:第一象限
B:第二象限
C:第三象限
D:第四象限
如图所示为一台电压力锅,它结合了高压锅和电饭锅的优点,省时省电、安全性高.当电压力锅内部气压过大或温度过高时,发热器都会停止工作.下图中S1为过压保护开关,S2为过热保护开关,压强过大时开关S1自动断开,温度过高时开关S2自动断开.下图分别表示S1、S2和锅内发热器的连接情况,其中符合上述工作要求的是( )
氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2