三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5 H2O = 2NO+HNO3+9 HF,下列有关该反应的说法正确的是( )
用显微镜观察装片时,下列操作正确的是( )