氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2
夏至日这一天，下列地点白昼最长的是（ ）
下列不属于家鸽适应飞行的特点是（ ）
补充下列孔子的名言。
①三人行，____。
②____ ，不亦说乎？
③知之为知之， ____。
为了减少雾霾现象的发生，我们倡导的行为是图中的（ ）
分别用下列各组物质作为单体，在一定条件下，通过缩合聚合反应能合成高分子化合物的是( )
①乙烯、丙烯、苯乙烯 ②乙酸、乙二醇 ③1,6己二酸，1,6己二胺 ④对苯二甲酸、乙二醇 ⑤α氨基乙酸，α氨基丙酸 ⑥α羟基丙酸
Si3N4+12H2Si3N4+12H2