答:可以分给18个小朋友。
氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2
人体细胞因某种原因改变了磷脂双分子层的排列,下列受到影响的细胞结构是( )①细胞膜 ②线粒体 ③核糖体 ④中心体 ⑤高尔基体⑥内质网 ⑦液泡 ⑧叶绿体 ⑨溶酶体