氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3SiH4+4NH3Si3N4+12H2
古希腊为何形成了以人体为塑造对象的艺术形式？欣赏教材插图，找一找古希腊有哪几位著名的雕塑家？他们的作品有何共同的特点？
如图，在△ABC中，AB=AC=10，点D是边BC上一动点（不与B、C重合），∠ADE=∠B=α，DE交AC于点E，且cosα=45，则线段CE的最大值为____ ．
Si3N4+12H2Si3N4+12H2