1.工业流程- (共1题)
1.
Cu2O是一种用途广泛的无机化工原料,一种以氧化铜矿(CuO,含有Fe2O3、Al2O3、SiO2杂质)为原料制备Cu2O的流程如图所示:

已知氨浸过程中仅发生的反应为:CuO+4NH3·H2O= [Cu(NH3)4]2++2OH-+3H2O
回答下列问题:
(1)氨浸之前需将矿物粉碎、过筛,目的是_______________________________。
(2)氨浸时的温度一般不超过30℃,主要原因是__________________。按此工艺,能否用NaOH溶液代替氨水?__________________(填“能”或“否”)。
(3)蒸馏过程中会生成一种黑色固体,则此过程中发生反应的化学方程式为____________。
(4)电解过程中阳极的电极反应式为_________________。
(5)Cu(OH)2也可与NH3·H2O反应,已知常温下:
Cu(OH)2(s)+4NH3·H2O(aq)
[Cu(NH3)4]2+(aq)+2OH-(aq)+4H2O(l) K1=4.4×10-7
Cu2+(aq)+4NH3·H2O(aq)
[Cu(NH3)4]2+(aq)+4H2O(l) K2=2.0×1013
则常温下Ksp[Cu(OH)2]=________________。
(6)为了尽量减少流程中所用原料的种类,还原过程可用气体A代替气体B,在加热条件下生成两种单质,该反应的化学方程式为________________________。

已知氨浸过程中仅发生的反应为:CuO+4NH3·H2O= [Cu(NH3)4]2++2OH-+3H2O
回答下列问题:
(1)氨浸之前需将矿物粉碎、过筛,目的是_______________________________。
(2)氨浸时的温度一般不超过30℃,主要原因是__________________。按此工艺,能否用NaOH溶液代替氨水?__________________(填“能”或“否”)。
(3)蒸馏过程中会生成一种黑色固体,则此过程中发生反应的化学方程式为____________。
(4)电解过程中阳极的电极反应式为_________________。
(5)Cu(OH)2也可与NH3·H2O反应,已知常温下:
Cu(OH)2(s)+4NH3·H2O(aq)

Cu2+(aq)+4NH3·H2O(aq)

则常温下Ksp[Cu(OH)2]=________________。
(6)为了尽量减少流程中所用原料的种类,还原过程可用气体A代替气体B,在加热条件下生成两种单质,该反应的化学方程式为________________________。
2.推断题- (共1题)
2.
氯霉素(
)曾用作广谱抗菌药物,一种合成路线如下:

已知:
的性质与酯基相似。
(1)A的化学名称为___________。
(2)D所含官能团的名称为___________;可以检测有机化合物中存在何种官能团的仪器是__________。
(3)反应②和③的反应类型分别是___________、_____________。
(4)设计反应④和⑥的目的是_________________________________________。
(5)由F到G的化学方程式为_________________________________________。
(6)芳香化合物X(C6H7NO2),与D具有相同的官能团,X的可能结构共有________种(不考虑立体异构):其中核磁共振氢谱为四组峰,峰面积比为2:2:2:1,其结构简式为_________。


已知:

(1)A的化学名称为___________。
(2)D所含官能团的名称为___________;可以检测有机化合物中存在何种官能团的仪器是__________。
(3)反应②和③的反应类型分别是___________、_____________。
(4)设计反应④和⑥的目的是_________________________________________。
(5)由F到G的化学方程式为_________________________________________。
(6)芳香化合物X(C6H7NO2),与D具有相同的官能团,X的可能结构共有________种(不考虑立体异构):其中核磁共振氢谱为四组峰,峰面积比为2:2:2:1,其结构简式为_________。
3.综合题- (共1题)
3.
硅及其化合物有许多用途,回答下列问题:
(1)基态Si原子价层电子的排布图(轨道表达式)为_________,含有长硅链的化合物不是氢化物,而是氯化物。主要原因是F比H多了一种形状的原子轨道,该原子轨道的形状为___________。
(2)SiF4分子的立体构型为_______形,SiCl4的熔、沸点均高于SiF4,主要原因是________________。
(3)SiF4可KF反应得K2SiF6晶体,该晶体可用于制取高纯硅,K2SiF6晶体中微观粒子之间的作用力有______。
a.离子键 b.共价键 c.配位键 d.分子间作用力 e.氢键

(4)H4SiO4的结构简式如图(1),中心原子Si的轨道杂化类型为_________,H4SiO4在常温下能稳定存在,但H4CO4不能,会迅速脱水生成H2CO3,最终生成CO2,主要原因是___________。
(5)硅的晶胞结构如图(2)所示,若该立方晶胞的边长为a nm,阿伏伽德罗常数的数值为NA,则距离最近的两个硅原子间的距离为_____nm,晶体硅密度的计算表达式为_____g/cm3。
(1)基态Si原子价层电子的排布图(轨道表达式)为_________,含有长硅链的化合物不是氢化物,而是氯化物。主要原因是F比H多了一种形状的原子轨道,该原子轨道的形状为___________。
(2)SiF4分子的立体构型为_______形,SiCl4的熔、沸点均高于SiF4,主要原因是________________。
(3)SiF4可KF反应得K2SiF6晶体,该晶体可用于制取高纯硅,K2SiF6晶体中微观粒子之间的作用力有______。
a.离子键 b.共价键 c.配位键 d.分子间作用力 e.氢键

(4)H4SiO4的结构简式如图(1),中心原子Si的轨道杂化类型为_________,H4SiO4在常温下能稳定存在,但H4CO4不能,会迅速脱水生成H2CO3,最终生成CO2,主要原因是___________。
(5)硅的晶胞结构如图(2)所示,若该立方晶胞的边长为a nm,阿伏伽德罗常数的数值为NA,则距离最近的两个硅原子间的距离为_____nm,晶体硅密度的计算表达式为_____g/cm3。
4.单选题- (共4题)
4.
某研究性小组为了探究石蜡油分解产物,设计了如下实验方案。下列说法正确的是


A.石蜡油是含多种液态烷烃的混合物 |
B.硬质试管中的碎瓷片起防爆沸的作用 |
C.酸性高锰酸钾溶液褪色说明生成了乙烯 |
D.溴的四氯化碳溶液褪色是因为发生了取代反应 |
5.
短周期元素X、Y、Z、M的原子序数依次增大,X原子的最外层电子数是内层电子数的2倍,Y2+电子层结构与氖相同,Z的质子数为偶数,室温下M单质为淡黄色固体。下列说法正确的是
A.原子半径:M>Z>Y>X | B.4种元素中Y的非金属性最强 |
C.Z的氧化物的水化物是强酸 | D.元素X可与元素M形成共价化合物XM2 |
6.
根据下列实验操作和现象得出的结论正确的是
选项 | 实验操作 | 现象 | 结论 |
A | 取一块用砂纸打磨过的铝箔在酒精灯上加热 | 铝箔变软且失去光泽,但不滴落 | 打磨过程不充分,未能完全损坏氧化膜 |
B | 向溴水中加入少量CCl4,振荡后静置 | 上层接近无色,下层显橙红色 | Br2在CCl4中的溶解度大于在水中的溶解度 |
C | 向某溶液中滴加盐酸,将生成的气体通入澄清石灰水 | 石灰水变浑浊 | 该溶液中一定含有CO32- |
D | 向NaCl、NaI的混合稀溶液中滴入少量稀AgNO3溶液 | 有黄色沉淀生成 | Ksp(AgCl)>Ksp(AgI) |
A.A | B.B | C.C | D.D |
7.
酸雨的形成是一种复杂的大气化学和光学化学过程,在清洁空气、污染空气中形成硫酸型酸雨的过程如下:

下列有关说法错误的是( )

下列有关说法错误的是( )
A.光照能引发酸雨的形成 |
B.所涉及的变化均为氧化还原反应 |
C.污染空气能加快酸雨的形成 |
D.优化能源结构能有效遏制酸雨污染 |
5.实验题- (共1题)
8.
四碘化锡(Snl4,M=627g/mol)是一种橙色针状晶体,遇水易发生水解,可在非水溶剂中由Sn和l2直接化合得到,实验装置如图(1)(加热装置略去)所示。

实验步骤如下:
组装仪器并加入药品后,通入冷凝水,加热圆底烧瓶,控制反应温度在80℃左右,保持回流状态,直到反应完全。取下仪器A、B,趁热将溶液倒入干燥的烧杯中,用热的CCl4洗涤圆底烧瓶内壁和锡片,并将洗涤液合并入烧杯内。再将烧杯置于冷水浴中冷却即析出Snl4晶体。
请回答下列问题:
(1)仪器B的名称为___________,冷凝水的进口为____________(填“甲”或“乙”)。为了控制反应温度,对圆底烧瓶适宜的加热方式是____________________。
(2)仪器A中盛放的试剂为无水CaCl2,其作用为____________。
(3)反应完全的现象为__________,用热的CCl4洗涤圆底烧瓶内壁和锡片的目的是_______,从烧杯中获取产品的操作名称为______________。
(4)产品的纯度可用滴定法测定:称取m g产品,加入足量的水,使产品充分水解[SnI4+(2+x)H2O=SnO2·xH2O↓+4HI]。将上层清液全部定容于250mL容量瓶中。移取25.00mL于锥形瓶中,加入少量CCl4和几滴KSCN溶液,用c mol/L的标准FeCl3溶液滴定至终点,平行测定三次,平均消耗标准FeCl3溶液的体积为1mL。(已知:2Fe3++2I-
2Fe2++I2)
①下列关于滴定分析,不正确的是________。
a.图(2)中为避免滴定管漏液,应将凡士林涂在旋塞的a端和旋塞套内的c端
b.滴定接近终点时,滴定管的尖嘴可以接触锥形瓶的内壁
c.当下层溶液变为紫红色且半分钟不褪色即为滴定终点
d.若不加CCl4,则测得样品的纯度可能偏高
②产品纯度的表达式为_________________。

实验步骤如下:
组装仪器并加入药品后,通入冷凝水,加热圆底烧瓶,控制反应温度在80℃左右,保持回流状态,直到反应完全。取下仪器A、B,趁热将溶液倒入干燥的烧杯中,用热的CCl4洗涤圆底烧瓶内壁和锡片,并将洗涤液合并入烧杯内。再将烧杯置于冷水浴中冷却即析出Snl4晶体。
请回答下列问题:
(1)仪器B的名称为___________,冷凝水的进口为____________(填“甲”或“乙”)。为了控制反应温度,对圆底烧瓶适宜的加热方式是____________________。
(2)仪器A中盛放的试剂为无水CaCl2,其作用为____________。
(3)反应完全的现象为__________,用热的CCl4洗涤圆底烧瓶内壁和锡片的目的是_______,从烧杯中获取产品的操作名称为______________。
(4)产品的纯度可用滴定法测定:称取m g产品,加入足量的水,使产品充分水解[SnI4+(2+x)H2O=SnO2·xH2O↓+4HI]。将上层清液全部定容于250mL容量瓶中。移取25.00mL于锥形瓶中,加入少量CCl4和几滴KSCN溶液,用c mol/L的标准FeCl3溶液滴定至终点,平行测定三次,平均消耗标准FeCl3溶液的体积为1mL。(已知:2Fe3++2I-

①下列关于滴定分析,不正确的是________。
a.图(2)中为避免滴定管漏液,应将凡士林涂在旋塞的a端和旋塞套内的c端
b.滴定接近终点时,滴定管的尖嘴可以接触锥形瓶的内壁
c.当下层溶液变为紫红色且半分钟不褪色即为滴定终点
d.若不加CCl4,则测得样品的纯度可能偏高
②产品纯度的表达式为_________________。
试卷分析
-
【1】题量占比
工业流程:(1道)
推断题:(1道)
综合题:(1道)
单选题:(4道)
实验题:(1道)
-
【2】:难度分析
1星难题:0
2星难题:0
3星难题:0
4星难题:0
5星难题:0
6星难题:7
7星难题:0
8星难题:0
9星难题:1