X是某种药物合成的中间体，合成X的部分流程如下：

已知: 乙酸酐的结构筒式为；同一碳原子上不能连有两个双键。
（1） C物质中含氧官能团的名称是______、_______。
（2）上述①、④变化过程的反应类型分别是______、_______。
（3）反应⑤的化学方程式为___________。
（4）满足下列条件的C的同分异构体有_________。
I.苯环上有两个取代基，其中一个取代基为氟原子
II.分子中含有酯基
写出其中只有3 种不同化学环境的氢的同分异构体结构简式_______、______。
（5）根据已有知设并结合相关信息，写出以和乙酸酐为原料制备的合成路线流程图(无机试剂任选)。合成路线流程图示例如下：
___________________。

随着科技的进步，化学品的使用日益增多，下列说法正确的是

A．大量使用含丙烷、二甲醚等辅助成分的“空气清新剂”，会对环境造成新的污染

B．制造普通玻璃的原料为石英砂(SiO2)、石灰石(CaCO3)和黏土

C．不法商贩用连二硫酸钠(Na2S2O4)对食品漂白，Na2S2O4只有氧化性无还原性

D．某些桶装水使用的劣质塑料桶常含有乙二醇(HOCH2-CH2OH)，乙二醇不溶于水

星际空间存在着以分子形式存在的星际物质。对于下表中所列出的星际分子的说法正确的是

名称	氰基乙炔	氰基丁二炔	?	氰基辛四	氰基癸五炔
化学式	HC3N	HC5N	HC7N	HC9N	HC12N

 

A．表中HC7N的名称为氰基己三炔	B．HC5N所有原子不在同一条直线上
C．以上五种星际分子互为同系物	D．HCnN属于高分子化合物

短周期主族元素X、Y、Z、W的原子序数依次增大。X原子的最外层电子数是K层电子数的3倍，Y的焰色反应为黄色，Y、Z、W三种元素原子序数之和为44。Y和W形成化合物的水溶液星中性。下列说法正确的是

A．简单离子半径:W>Z>Y>X

B．X、Z、W的简单气态氢化物的稳定性:W>Z>X

C．W的正价与最低负价的绝对值之和为8

D．Y2Z溶于水，其水密液呈碱性

实验室中某此气体的制取、收集及尾气处理装骨如图所示（省略夹持和净化装置)。仅用此装置和表中提供的物质完成相关实验，最合理的选项是

选项	a中的物质	b中的物质	c中收集的气体	d中的物质
A	浓氨水	CaO	NH3	H2O
B	浓硫酸	Na2SO3	SO2	NaOH溶液
C	稀硝酸	Cu	NO2	H2O
D	浓硫酸	木炭	CO2	NaOH溶液

 

A．A

B．B

C．C

D．D

钴、铁、镓、砷的单质及其化合物在生产生活中有重要的应用，请回答下列问题:
（1）写出砷(As) 的基态原子的电子排布式_________。
（2） N、P、As为同一主族元素，其电负性从大到小的顺序为_______，它们的简单氢化物沸点最高的是______，将NaNO₂和Na₂O在一定的条件下反应得到一种白色晶体，已知其中的阴离子与SO₄^2-互为等电子体，则该阴离子的化学式为________。
（3）Fe³⁺、Co³⁺、N₃^+-、CN^-等可形成络合离子。
①K3Fe(CN)6]可用于检验Fe2+，配体CN-中碳原子杂化轨道类型为________。
②[Co(N₃)(NH₃)₅]SO₄中Co的配位数为_______，其配离子中含有的化学健类 型 为_____(填离子键、共价键、配位键)，C、N、O的第一电离能最大的是_____，其原因是_______。
（4）砷化镓晶胞结构如图。晶跑中Ga与周围等距且最近的砷形成的空间构型为_____，已知砷化镓晶胞边长为apm，其密度为ρg·cm^-3，则阿伏加德罗常数的数值为______(列出计算式即可)。

利用化学原理可以对工厂排放的废水，废渣等进行有效检测与合理处理。某工厂对制革工业污泥中部的处理工艺流程如下:

已知硫酸浸取液中的金属离子主要是Cr³⁺，其次是Fe³⁺、Al³⁺、Ca²⁺和Mg²⁺。
（1） 酸浸时，为了提高浸取率可采取的措施有_________、___________。(答出两点)。
（2）H₂O₂ 的作用是将滤液I中的Cr³⁺转化为Cr₂O₇^2-，则此反应中氧化剂和还原剂物质的量之比为_______。
（3）常温下，部分阳离子以氢氧化物形式沉淀时溶液的pH如下：

阳离子	Fe3+	Al3+	Cr3+
开始沉淀时的pH	2.7	—	—
沉淀完全时的pH	3.7	5.4(>8溶解)	9(>9溶解)

 
①用NaOH调节溶液的pH不能超过8，其理由是________________。
②当pH=8时，Mg²⁺是否开始沉淀(溶液中镁高子浓度不超过1mol·L^-1)。____  (填“是”或“否”(已知Ksp[Mg(OH)₂]=1. 8×10^-11)。
（4）上述流程中，加入NaOH 溶液后，溶液呈碱性，Cr₂O₇^2- 转化为CrO₄^2-，写出上述流程中用SO₂进行还原时发生反应的离子方程式_____________。

工业上可用焦炭、二氧化硅的混合物在高温下与氧气反应生成SiCl₄，SiCl₄经提纯后用氢气还原得高纯硅。以下是某化学小组制备干景的氧气并在实验室制备SiCl₄的部分装置示意图(注: SiCl₄遇水易水解)。

 
（1）选择上图部分装置，制备纯净干燥的氯气，正确的仪器连接顺序为：发生装置甲→___→____→_____→_____→装置A(用小写字母填空)。_____________
（2）上图C装置的作用是_______________。
（3）装置A的硬质玻璃管中二氧化硅和焦炭与氯气恰好完全反应生成SCl₄，则二氧化硅和碳的物质的量之比为_________________。
（4）经过讨论，该小组认为D中吸收尾气一段时间后，除了过量的OH^-，吸收液中阴离子肯定存在Cl^-和SO₄^2-，原因是__________(用离子方程式解释)。
（5）有同学认为可能还存在其它酸根离子(忽略空气中CO₂的影响)，提出下列假设(不考虑各因素的叠加)，假设1：只有SO₃^2-，假设2:只有ClO^-，假设3:……
设计实验验证上述假设1和假设2：取少量吸收液于试管中，滴加3mol/LH₂SO₄至溶液呈酸性，然后将所得溶液分置于a、b两试管中，请填写空白的实验步骤、预期现象。  

实验步骤(简述操作过程)	预期現象	结论
向a试管中滴加几滴品红溶液，观察现象，加热试管a，观察到	____________。 ____________。	假设1成立
向b试管中滴加______________	溶液变为蓝色。	假设2成立