1.推断题- (共1题)
1.
香豆素是广泛存在于植物中的一类芳香族化合物,大多具有光敏性,有的还具有抗菌和消炎作用,可用于配制香精以及制造日用化妆品和香皂等。它的核心结构是芳香内酯A,其分子式为C9H6O2,该芳香内酯A经下列步骤转变为E和水杨酸。

提示:CH3CH=CHCH2CH3
CH3COOH+CH3CH2COOH
请回答下列问题:
(1)化合物A中官能团名称为_____________;化合物E的化学名称是________。
(2)B→C的反应方程式为______,该反应类型为_______,该反应步骤的目的是_________________。
(3)化合物D有多种同分异构体,其中一类同分异构体是苯的二取代物,且水解后生成的产物之一能发生银镜反应。这类同分异构体共有________种;写出其中核磁共振氢谱有5种峰,且其信号强度之比为1:1:2:2:2的同分异构体的结构简式__________。
(4)已知R-CH=CH2
R-CH2-CH2-Br。请设计合理方案从
合成
(用反应流程图表示,并注明反应条件)。______
例:由乙醇合成乙烯的反应流程图可表示为
CH3CH2OH
CH2=CH2
CH2-CH2
香豆素是广泛存在于植物中的一类芳香族化合物,大多具有光敏性,有的还具有抗菌和消炎作用,可用于配制香精以及制造日用化妆品和香皂等。它的核心结构是芳香内酯A,其分子式为C9H6O2,该芳香内酯A经下列步骤转变为E和水杨酸。

提示:CH3CH=CHCH2CH3

请回答下列问题:
(1)化合物A中官能团名称为_____________;化合物E的化学名称是________。
(2)B→C的反应方程式为______,该反应类型为_______,该反应步骤的目的是_________________。
(3)化合物D有多种同分异构体,其中一类同分异构体是苯的二取代物,且水解后生成的产物之一能发生银镜反应。这类同分异构体共有________种;写出其中核磁共振氢谱有5种峰,且其信号强度之比为1:1:2:2:2的同分异构体的结构简式__________。
(4)已知R-CH=CH2



例:由乙醇合成乙烯的反应流程图可表示为
CH3CH2OH




2.单选题- (共2题)
2.
一种从植物中提取的天然化合物,可用于制作“香水”,其结构简式为
,下列有关该化合物的说法错误的是

A.分子式为C12H18O2 |
B.分子中至少有6个碳原子共平面 |
C.该化合物能使酸性高锰酸钾溶液褪色 |
D.一定条件下,1 mol该化合物最多可与3 mol H2加成 |
3.
短周期元素X、Y、Z的原子序数依次递增,其原子的最外层电子数之和为13,X与Y、 Z位于相邻周期,Z原子最外层电子数是X原子内层电子数的3倍或者Y原子最外层电子数的3倍。下列说法正确的是( )
A.简单离子半径:Z>Y>X |
B.氢化物的稳定性:Z>X |
C.Z的最高价氧化物可用于漂白 |
D.X与Y形成的化合物为离子化合物 |
3.实验题- (共1题)
4.
工业上常利用含硫废水生产Na2S2O3•5H2O,原理是S+Na2SO3
Na2S2O3(Na2SO3稍过量)。实验室可用如下装置(略去部分加持仪器)模拟生成过程。

(1)仪器A中产生气体的化学方程式为______________________。
(2)装置B的作用是________________________________________。
(3)实验中,为使SO2缓慢进入装置C,采用的操作是____________________,装置C中制备反应结束的现象是_________________________________。
(4)装置C中的溶液,一般控制在碱性环境,否则产品发黄,用离子反应方程式表示其原因________________________________________________;为减少装置C中常可能出现的Na2SO4杂质,在不改变原有装置的基础上应采取的操作是___________________;反应结束后,过滤C中的混合物,滤液经________(填写操作名称)、结晶、过滤、洗涤、干燥,得到产品。
(5)装置D用于处理尾气,可选用的最合理装置(夹持仪器已略去)为______(填序号)。


(1)仪器A中产生气体的化学方程式为______________________。
(2)装置B的作用是________________________________________。
(3)实验中,为使SO2缓慢进入装置C,采用的操作是____________________,装置C中制备反应结束的现象是_________________________________。
(4)装置C中的溶液,一般控制在碱性环境,否则产品发黄,用离子反应方程式表示其原因________________________________________________;为减少装置C中常可能出现的Na2SO4杂质,在不改变原有装置的基础上应采取的操作是___________________;反应结束后,过滤C中的混合物,滤液经________(填写操作名称)、结晶、过滤、洗涤、干燥,得到产品。
(5)装置D用于处理尾气,可选用的最合理装置(夹持仪器已略去)为______(填序号)。

试卷分析
-
【1】题量占比
推断题:(1道)
单选题:(2道)
实验题:(1道)
-
【2】:难度分析
1星难题:0
2星难题:0
3星难题:0
4星难题:2
5星难题:0
6星难题:2
7星难题:0
8星难题:0
9星难题:0