1.单选题- (共2题)
2.
下列关于硫酸工业生产过程的叙述错误的是( )
A.在接触室中使用铁粉作催化剂 |
B.在接触室中运用热交换技术可充分利用能源 |
C.把硫铁矿磨成细粉末,可以提高原料的利用率 |
D.该反应采用450~500°C主要是因为该温度下催化剂活性好 |
2.填空题- (共1题)
3.
用氮化硅(Si3N4)陶瓷代替金属制造发动机的耐热部件,能大幅度提高发动机的热效率。工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g) =Si3N4(s)+12HCl(g)+Q(Q>0)完成下列填空:
(1)写出N2的电子式:___________________,写出SiCl4的结构式:______________。
(2)由氮化硅(Si3N4)陶瓷的用途可推测其晶体类型为________。
a.离子晶体 b. 原子晶体 c.分子晶体 d.金属晶体
(3)在一定温度下进行上述反应,若反应容器的容积为2 L,3 min后达到平衡,测得固体的质量增加了2.80 g,则H2的平均反应速率___ mol/(L·min)。
(4)一定条件下,在密闭恒容的容器中,能表示上述反应达到化学平衡状态的是______。
a.3v逆(N2)=v正(H2) b.v正(HCl)=4v正(SiCl4)
c.混合气体密度保持不变 d.c(N2):c(H2):c(HCl)=1:3:6
(5)上述反应达到平衡后,下列说法正确的是________。
a.其他条件不变,压强增大,正反应速率减小
b.其他条件不变,温度升高,正、逆反应速率都增大
c.其他条件不变,增大Si3N4物质的量平衡向左移动
d.其他条件不变,增大HCl物质的量平衡向左移动
(6)若平衡时H2和HCl的物质的量之比为
,保持其它条件不变,降低温度后达到新的平衡时,H2和HCl的物质的量之比___
(填“>”、“=”或“<”)。
(1)写出N2的电子式:___________________,写出SiCl4的结构式:______________。
(2)由氮化硅(Si3N4)陶瓷的用途可推测其晶体类型为________。
a.离子晶体 b. 原子晶体 c.分子晶体 d.金属晶体
(3)在一定温度下进行上述反应,若反应容器的容积为2 L,3 min后达到平衡,测得固体的质量增加了2.80 g,则H2的平均反应速率___ mol/(L·min)。
(4)一定条件下,在密闭恒容的容器中,能表示上述反应达到化学平衡状态的是______。
a.3v逆(N2)=v正(H2) b.v正(HCl)=4v正(SiCl4)
c.混合气体密度保持不变 d.c(N2):c(H2):c(HCl)=1:3:6
(5)上述反应达到平衡后,下列说法正确的是________。
a.其他条件不变,压强增大,正反应速率减小
b.其他条件不变,温度升高,正、逆反应速率都增大
c.其他条件不变,增大Si3N4物质的量平衡向左移动
d.其他条件不变,增大HCl物质的量平衡向左移动
(6)若平衡时H2和HCl的物质的量之比为


试卷分析
-
【1】题量占比
单选题:(2道)
填空题:(1道)
-
【2】:难度分析
1星难题:0
2星难题:0
3星难题:0
4星难题:0
5星难题:0
6星难题:1
7星难题:0
8星难题:1
9星难题:1